Si3N4 セラミック・グライディング・メディア・ボール 0.4mm 3.0mm セラミック・ボール・ミル・メディア

理想的な 0.4mm 3.0mm フリーシングメディア 硬さ シリコンナイトリド Si3N4 フリーシングメディアボール

シリコンナイトリド磨きメディアボール
シリコンナイトライド磨き媒体のボールには,高強度,耐磨/耐腐蝕性,高温性,電熱隔離性などの望ましい特性があり,磁性でない.他の研磨用材料と比較して鉄鋼よりも軽い重量 (60%) 熱膨張が低く,総運用コストが低くなっていますその高い硬さは,金属粉末の破碎と精製の圧倒的多数の要求を満たすことができます. 高い硬さ,低汚染,少なめの磨きを必要とするときに理想的な磨き媒体です.私たちのシリコンナイトライドメディアは,0.4mmから3.0mmまでのサイズで利用できます.要求に応じられる他のサイズで.

シリコンナイトリド (Si3N4) の磨きボールとは,精密なシンタリングプロセスにより,シリコンナイトリド原材料から製造された高性能の陶器磨きメディアである.高硬さ,低密度,優れた耐磨性および耐腐蝕性高純度素材加工のための理想的な磨きと分散媒介として機能します.高温シンテリングと精密磨きにより 高純度シリコンナイトリッド粉末で製造され,これらの磨きボールは優れた機械的強度,極端な耐磨性,優れた熱安定性と化学的惰性伝統的なジルコニア,アルミニウム,鋼磨材の改良された代替として,Si3N4ボールは,より高い磨き効率,超低汚染,より長い使用寿命を提供します.高級産業用および研究室用フライディング用メディアとして広く認識されています.

主要 な 特性 と 利点
■ 特殊 な 硬さ と 超 軽量 な 磨き
ヴィッカース硬さ14−18 GPa (普通のジルコニアとアルミナセラミクよりもはるかに高い) と24時間の着用率はわずか10ppmで,私たちのシリコンナイトライド磨きボール 長期継続的な動作中に最小限の材料損失を保証超低着用は,効果的にメディア残骸汚染を排除します.完成した超細粉末の高純度を保証し,生産維持コストと媒体の交換頻度を大幅に削減する.
■ 優れた熱安定性と衝撃耐性
この磨き球は,最大 1300°Cまでの使用温度に対応し,熱衝撃耐性を優れている.高温の磨き環境における急激な温度変動に適応する低熱膨張系数と安定した熱伝導性は,極端な熱条件下で一貫した構造性能を保証します.高温プロセス互換性において従来のセラミックメディアをはるかに上回る.
■ 優れた自己潤滑と低摩擦性能
摩擦係数は0.1~0.0です2シリコンナイトリドの磨きボールには優れた自己潤滑特性があります.彼らは,追加の潤滑剤を必要とせず,油のない,真空,クリーンルーム,高汚染の厳しい環境で安定して動作します.,精密加工のシナリオに特異的に適しているため,油汚染と補助潤滑を禁止する.
■ 化学 慣性 と 腐食 耐性 が 優れている
Si3N4セラミック材料は,湿地磨きおよび化学磨き過程で化学反応または溶解なしに,ほとんどの酸,塩基および有機溶媒による侵食に耐える.腐食的な加工環境に完全に適応し,厳格に磨き材料の化学的純度と性能安定性を保護.
■ 軽量 省エネ 非磁気 隔熱
3.20 g/cm3 の低密度 (鉄筋ボールの約半分以下) で,軽量な設計により,工場の運用負荷とエネルギー消費量が効果的に削減され,全体的な生産効率が向上します.その間磁気干渉や電導の危険を回避し,特殊な工業加工基準を満たすため,磁気から電気を隔離する.

一般的な用途

1.新エネルギー材料:リチウム電池の陽性/陰性材料,シリコン・炭素材料,セラミック電解質,伝導剤の超細微磨きと分散
2化学および製薬産業: 微細化学品,薬剤間介類および食品級原材料の低汚染加工
3高級セラミックスと粉末金属工学:アルミナ,ジルコニア,シリコンカービッドおよび金属粉末材料の高純度磨き
4精密研究: 極細粒子の精密化と分散実験で,汚染がゼロで高精度が必要です.
5電子および半導体材料:電子陶器粉末,半導体補助材料,高純度機能粉末の精密加工