研磨セラミックボール 窒化ケイ素 Si3N4 グラインディングメディアボール
| 製品名 | セラミックメディアボールの粉砕 | 材料 | 窒化ケイ素 (Si3N4) |
|---|---|---|---|
| サイズ範囲 | 0.4mmから3.0mm | 硬度 | モース 8 ~ 9 |
| 密度 | 3.2g/cm3 | 純度 | 90%以上 |
| 形 | 球状 | 熱安定性 | 1100°Cまで |
| 表面仕上げ | 滑らか、均一 | 耐薬品性 | 酸や塩基に強い耐性 |
| 色 | 灰色、黒い | 耐摩耗性 | 高い耐摩耗性 |
| 応用 | ボールミルによる粉砕、粉砕、分散 | ||
| ハイライト | 研磨セラミックボール,窒化ケイ素グラインディングメディアボール,Si3N4 グラインディングメディアボール |
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0.4mm-3.0mm プレミアム高性能ミーリングメディア ポリッシュ窒化ケイ素 Si3N4 グラインディングメディアボール
研磨済み窒化ケイ素グラインディングメディアボール
窒化ケイ素グラインディングメディアボールは、高強度、優れた耐摩耗性/耐食性、高温耐性、電気絶縁性、非磁性といった望ましい特性を備えています。他のグラインディングメディアと比較して、軽量(鋼鉄の60%減)、低い熱膨張、運用コストの削減を実現します。その高い硬度は、ほとんどの金属粉末の粉砕および精製ニーズを満たすことができます。高硬度、低汚染、低摩耗が求められる場合に理想的なグラインディングメディアです。当社の窒化ケイ素メディアは0.4mmから3.0mmまでのサイズで提供されており、その他のサイズもご要望に応じて対応可能です。
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主な特性と利点
■ 並外れた硬度と超低摩耗
ビッカース硬度14~18 GPa(通常のジルコニアやアルミナセラミックよりもはるかに高い)と、24時間あたりの摩耗率がわずか10ppmという無視できるレベルであるため、当社の窒化ケイ素グラインディングボールは、長期間の連続運転中の材料損失を最小限に抑えます。超低摩耗は、メディアの破片による汚染を効果的に排除し、完成した超微粉末の高い純度を保証し、生産メンテナンスコストとメディア交換頻度を大幅に削減します。
■ 優れた熱安定性と耐衝撃性
これらのグラインディングボールは、最大1300℃のサービス温度をサポートし、優れた熱衝撃耐性を示し、高温粉砕環境での急激な温度変動に対応します。低い熱膨張係数と安定した熱伝導率は、極端な熱条件下での一貫した構造性能を保証し、高温プロセスとの互換性において従来のセラミックメディアをはるかに上回ります。
■ 優れた自己潤滑性と低摩擦性能
0.1~0.2の低い摩擦係数を誇る窒化ケイ素グラインディングボールは、優れた自己潤滑特性を備えています。油、真空、クリーンルーム、高汚染の過酷な環境でも追加の潤滑なしで安定して動作するため、油汚染や補助潤滑を禁止する精密処理シナリオに特に適しています。
■ 優れた化学的不活性と耐食性
Si₃N₄セラミック材料は、ほとんどの酸、アルカリ、有機溶剤からの浸食に耐え、湿式粉砕および化学粉砕プロセス中に化学反応や溶解を起こしません。腐食性のある処理環境に完全に適合し、粉砕材料の化学的純度と性能安定性を厳密に保護します。
■ 軽量で省エネ、非磁性、絶縁性
密度が3.20 g/cm³と低く(鋼球の半分以下)、軽量設計によりミルの運転負荷とエネルギー消費を効果的に削減し、全体的な生産効率を向上させます。同時に、ボールは非磁性で電気絶縁性があり、磁気干渉や電気伝導のリスクを回避し、特別な工業処理基準を満たします。
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一般的な用途
1.新エネルギー材料:リチウム電池正極/負極材料、シリコン炭素材料、セラミック電解質、導電助剤の超微粉砕および分散
2.化学・製薬業界:ファインケミカル、医薬品中間体、食品グレード原料の低汚染粉砕
3.先進セラミックス・粉末冶金:アルミナ、ジルコニア、炭化ケイ素、金属粉末材料の高純度粉砕
4.実験室精密研究:汚染ゼロと高精度を必要とする超微粒子径の微細化および分散実験
5.電子・半導体材料:電子セラミック粉末、半導体補助材料、高純度機能性粉末の精密加工
