Полированные керамические фрезерные шарики из нитрида кремния Si3N4 для измельчения

0.4mm-3.0mm Премиум высокопроизводительные фрезерные носители Полированный нитрид кремния Si3N4 Смесительные носители шары

Полированные шарики для шлифовки нитридом кремния
Кремниевые нитриды имеют желательные характеристики, такие как высокая прочность, хорошая износостойкость/коррозионная стойкость, высокая температурная стойкость, электрическая изоляция и не являются магнитными.По сравнению с другими средствами измельчения, он имеет более легкий вес (60% меньше, чем сталь), меньшее тепловое расширение и снижение общей эксплуатационной стоимости.Его высокая твердость может удовлетворять требованиям подавляющего большинства металлопорошков дробилки и очистки. Это идеальная среда для шлифовки, когда требуется высокая твердость, низкое загрязнение и меньше абразии.с другими размерами, доступными по запросу.

Ключевые свойства и преимущества
■ Исключительная твердость и очень низкий износ
С твердостью Викерса 14 ‰ 18 ГПа (намного выше, чем обычная цирконовая и алюминиевая керамика) и незначительным уровнем износа всего 10 ppm в течение 24 часов,наши кремниевые нитриды шлифовальные шары обеспечивают минимальную потерю материала во время длительной непрерывной работыУльтра-низкий износ эффективно устраняет загрязнение мусором.гарантирование высокой чистоты готовых сверхтонких порошков и значительное снижение затрат на техническое обслуживание производства и частоты замены носителей.
■ Выдающаяся тепловая стабильность и устойчивость к ударам
Эти шлифовальные шары поддерживают максимальную температуру эксплуатации до 1300°C и обладают отличной термоупорностью.адаптация к резким колебаниям температуры в высокотемпературных средах шлифованияИх низкий коэффициент теплового расширения и стабильная теплопроводность обеспечивают постоянные конструктивные характеристики при экстремальных тепловых условиях.значительно превосходящие обычные керамические среды в высокотемпературной совместимости процессов.
■ Высокая самосмазка и низкая производительность трения
С низким коэффициентом трения 0,1−0.2, кремниевые нитридные шлифовальные шары обладают отличными свойствами самосмазки. Они стабильно работают в нежирной, вакуумной, чистой комнате и суровой среде с высоким уровнем загрязнения без дополнительной смазки.,что делает их исключительно подходящими для сценариев точной обработки, запрещающих загрязнение маслом и вспомогательную смазку.
■ Отличная химическая инертность и коррозионная устойчивость
Керамический материал Si3N4 устойчив к эрозии от большинства кислот, щелочей и органических растворителей, без химической реакции или растворения во время мокрого измельчения и химических процессов фрезерной обработки.Он отлично адаптируется к коррозионной обработки окружающей среды и строго защищает химическую чистоту и стабильность производительности измельчающих материалов.
■ Легкий и энергосберегающий, немагнитный и изолирующий
С низкой плотностью 3,20 г/см3 (менее половины стальных шаров), легкая конструкция эффективно снижает рабочую нагрузку и потребление энергии, повышая общую эффективность производства.А пока..., шарики не являются магнитными и электрически изолирующими, избегая магнитных помех и рисков электрической проводимости, чтобы соответствовать специальным стандартам промышленной обработки.

Общие применения

1.Новые энергетические материалы: Ультратонкое измельчение и диспергирование литиевых батарей положительных/отрицательных материалов, кремниево-углеродных материалов, керамических электролитов и проводящих агентов
2Химическая и фармацевтическая промышленность: Мельтеж тонких химических веществ, фармацевтических промежуточных продуктов и продовольственного сырья с низким уровнем загрязнения
3.Усовершенствованная керамика и порошковая металлургия: высокочистая шлифовка алюминия, циркония, карбида кремния и порошковых металлов
4.Лабораторные исследования точности: ультратонкие эксперименты по очистке и дисперсии частиц, требующие нулевого загрязнения и высокой точности
5.Электронные и полупроводниковые материалы: точная обработка электронного керамического порошка, полупроводниковых вспомогательных материалов и высокочистых функциональных порошков