高強度 自己潤滑シリコンナトリド Si3N4 迷路ディスク 精密機械用
| タイプ | 窒化ケイ素ラビリンスディスク | 重さ | サイズと材料の密度によって異なります |
|---|---|---|---|
| 材料 | 窒化ケイ素 | 耐久性 | 高温条件下でも高い耐久性 |
| 耐熱衝撃性 | 高い | 耐薬品性 | 酸、アルカリ、溶融金属に対する耐性 |
| 肉厚 | サイズや用途により異なります | 耐熱性 | 1200℃以上まで |
| 形 | カスタマイズされた | サイズ | さまざまなサイズをご用意 |
| 色 | 通常は黒またはグレー | 仕上げる | 滑らかな表面 |
| 使用法 | 化学およびエネルギー、精密製造、医療機器、半導体およびエレクトロニクス | ||
| ハイライト | 高靭性窒化ケイ素 Si3N4,高靭性窒化ケイ素セラミックス,高耐久性窒化ケイ素 Si3N4 |
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高靭性自己潤滑窒化ケイ素 Si3N4 ラビリンスディスク 精密機械用
はじめに:
窒化ケイ素は、金属や他の技術セラミックとは異なり、機械的、熱的、化学的特性のバランスが取れています。
1. 高硬度&優れた耐摩耗性
ビッカース硬度1500 HV以上で、鋭利な研磨粉による侵食に耐えます。耐用年数はステンレス鋼製のものより数倍長く、部品交換頻度と生産停止時間を削減します。
2. 高破壊靭性&高速信頼性
Si₃N₄ は破壊靭性 ≥6.0 MPa·m¹/² を特徴とします。脆いアルミナセラミックとは異なり、粒子衝撃や機械的衝撃に耐えます。低密度(3.2 g/cm³、鋼の約2/3の重量)は回転慣性を低減します。ホイールは10,000 rpm以上の速度で安定して走行し、ベアリング負荷が低く、より高い限界回転速度とより細かい分類能力をサポートします。
3. 優れた耐熱衝撃性
低い熱膨張係数は、優れた耐熱衝撃性能を可能にします。連続粉体処理中の急激な温度変動にひび割れなく耐え、ホットパウダー供給または周期的な温度サイクルを伴うプロセスに理想的です。
4. 化学的安定性とゼロ金属汚染
窒化ケイ素は、ほとんどの酸、アルカリ、有機媒体に対して化学的に安定しています。加工された粉末を金属粒子で汚染することはありません。この特性は、不純物を厳密に管理する必要があるバッテリー材料、医薬品、高純度鉱物、セラミック粉末製造において重要です。
5. 精密製造性
一体成形された焼結構造により、組み立てられたブレードの緩みのリスクがありません。スロット、シャフト穴、動的バランス穴は、精密な空力プロファイルと資格のある動的バランスのために、厳しい寸法公差に機械加工できます。
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窒化ケイ素材料シート
| 特性 | 単位 | シリコーンナイトライド | |
| 機械的 | 密度 | gm/cc | 3.2 |
| 気孔率 | % | 0 | |
| 曲げ強度 | Mpa | 830 | |
| 圧縮強度 | Mpa | 2500 | |
| 弾性率 | Gpa | 310 | |
| ポアソン比 | / | 0.27 | |
| 硬度 | kg/mm2 | 1580 | |
| 破壊靭性 KIC | Mpa *m 1/2 | 6.1 | |
| 熱 | 熱伝導率 | W/ m*k | 30 |
| 熱膨張係数 | 10⁻⁶/K | 3.3 | |
| 比熱 | j/kg*K | / | |
| 耐熱衝撃性 | °C | / | |
| 最大使用温度 | °C | 1400 | |
| 電気的 | 絶縁破壊強度 | ac-kv/mm | / |
| 誘電率 | / | 8 | |
| 損失正接 | / | / | |
| 体積抵抗率 | ohm•cm | >1014 | |
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主な用途:
高温炉保護管、熱電対絶縁スリーブ、冶金溶融金属搬送およびシールド管、半導体熱処理装置、新エネルギー高温モジュール、化学防食配管、工業用高温絶縁構造部品。
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特徴:
● 高硬度
窒化ケイ素は非常に高い硬度を示し、耐摩耗工具や切削工具などの分野に適しています。
● 優れた耐摩耗性
窒化ケイ素セラミックは優れた耐摩耗性を示し、高摩耗環境での用途に適しています。
● 優れた絶縁性能
窒化ケイ素セラミックは優れた電気絶縁特性と化学的安定性を持ち、エレクトロニクスおよび半導体産業で広く使用されています。
● 高温安定性
高温環境で安定性を維持でき、高温ヒーターや炉などの用途に適しています。
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用途:
回転ボールベアリングおよびローラーベアリング
切削工具
エンジン部品:バルブ、ロッカーアームパッド、シール面
誘導加熱コイルサポート
タービンブレード、ベーン、バケット
溶接およびろう付け治具
発熱体部品
るつぼ
金属管成形ロールおよびダイ
TIG / プラズマ溶接ノズル
溶接ポジショナー
高摩耗環境での精密シャフトおよびアクスル
熱電対シースおよびチューブ
半導体プロセス装置
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