低汚染窒化ケイ素基板 耐薬品性 Si3N4 セラミック基板
| タイプ | 注文の陶磁器の基質 | 重さ | サイズと材料の密度によって異なります |
|---|---|---|---|
| 材料 | 窒化ケイ素 | 耐久性 | 高温条件下でも高い耐久性 |
| 容量 | 数ミリリットルから数リットルまでの範囲 | 耐熱衝撃性 | 高い |
| 許容範囲 | ±0.02mm | 表面粗さ | Ra0.3 |
| 耐薬品性 | 酸、アルカリ、溶融金属に対する耐性 | 耐熱性 | 1600℃以上まで |
| 形 | カスタマイズされた | サイズ | さまざまなサイズをご用意 |
| 色 | 通常は黒またはグレー | 仕上げる | 滑らかな内面で注ぎやすい |
| 使用法 | 極端な温度、腐食性環境、または急激な温度変化 | ||
| ハイライト | 高精度窒化ケイ素基板,耐薬品性セラミック基板,セラミック基板 低汚染 |
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エレクトロニクス用高性能窒化ケイ素セラミック基板
窒化ケイ素セラミック部品:
窒化ケイ素(Si3N4)は、あらゆる先進セラミック材料の中で最も多用途な機械的、熱的、電気的特性の組み合わせを持っています。これは、非常に硬く、優れた熱衝撃および耐衝撃性を備えた高性能先進セラミックです。ほとんどの金属の高温能力を超え、クリープおよび耐酸化性の優れた組み合わせを備えています。さらに、低い熱伝導率と高い耐摩耗性により、最も要求の厳しい産業用途で最も過酷な条件に耐えることができる優れた材料となっています。高温および高負荷能力が必要な場合に、窒化ケイ素は優れた選択肢です。
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Si3N4窒化ケイ素高熱伝導るつぼは、ガス圧焼結および精密仕上げプロセスを通じて高純度Si3N4原料から製造されたプレミアム構造セラミック容器です。従来のアルミナおよび石英るつぼとは異なり、窒化ケイ素るつぼは、優れた熱伝導率、極端な高温安定性、優れた機械的強度、および化学的不活性を特徴としています。熱伝導が遅い、熱衝撃による亀裂、高温酸化、汚染しやすいなどの従来のるつぼの一般的な欠点を効果的に解決します。高温焼結、溶融、熱処理、材料合成に広く適用され、工業生産および実験室での精密試験用の高信頼性消耗品として機能します。
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窒化ケイ素材料シート
| 特性 | 単位 | シリコーンナイトライド | |
| 機械的 | 密度 | gm/cc | 3.2 |
| 気孔率 | % | 0 | |
| 曲げ強度 | Mpa | 830 | |
| 圧縮強度 | Mpa | 2500 | |
| 弾性率 | Gpa | 310 | |
| ポアソン比 | / | 0.27 | |
| 硬度 | kg/mm2 | 1580 | |
| 破壊靭性 KIC | Mpa *m 1/2 | 6.1 | |
| 熱 | 熱伝導率 | W/ m*k | 30 |
| 熱膨張係数 | 10⁻⁶/K | 3.3 | |
| 比熱 | j/kg*K | / | |
| 耐熱衝撃性 | °C | / | |
| 最高使用温度 | °C | 1400 | |
| 電気 | 絶縁破壊強度 | ac-kv/mm | / |
| 誘電率 | / | 8 | |
| 損失正接 | / | / | |
| 体積抵抗率 | ohm・cm | >10¹⁴ | |
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特徴:
● 高硬度
窒化ケイ素は非常に高い硬度を示し、耐摩耗工具や切削工具などの分野に適しています。
● 優れた耐摩耗性
窒化ケイ素セラミックは優れた耐摩耗性を示し、高摩耗環境での用途に適しています。
● 優れた絶縁性能
窒化ケイ素セラミックは優れた電気絶縁特性と化学的安定性を備えており、エレクトロニクスおよび半導体産業で広く使用されています。
● 高温安定性
高温環境で安定性を維持できるため、高温ヒーターや炉などの用途に適しています。
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用途:
回転ボールベアリングおよびローラーベアリング
切削工具
エンジン部品: バルブ、ロッカーアームパッド、シール面
誘導加熱コイルサポート
タービンブレード、ベーン、バケット
溶接およびろう付け治具
発熱体部品
るつぼ
金属管成形ロールおよびダイ
TIG / プラズマ溶接ノズル
溶接ポジショナー
高摩耗環境での精密シャフトおよびアクスル
熱電対シースおよびチューブ
半導体プロセス装置
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