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低汚染窒化ケイ素基板 耐薬品性 Si3N4 セラミック基板

起源の場所 邯鄲
ブランド名 Norcera
証明 ISO9001
最小注文数量 1個
価格 $1.5~$5000 Per Piece
パッケージの詳細 木製ケージまたは重いカートン
受渡し時間 10~15営業日
支払条件 T/T
供給の能力 月あたり 200 個
商品の詳細
タイプ 注文の陶磁器の基質 重さ サイズと材料の密度によって異なります
材料 窒化ケイ素 耐久性 高温条件下でも高い耐久性
容量 数ミリリットルから数リットルまでの範囲 耐熱衝撃性 高い
許容範囲 ±0.02mm 表面粗さ Ra0.3
耐薬品性 酸、アルカリ、溶融金属に対する耐性 耐熱性 1600℃以上まで
形 カスタマイズされた サイズ さまざまなサイズをご用意
色 通常は黒またはグレー 仕上げる 滑らかな内面で注ぎやすい
使用法 極端な温度、腐食性環境、または急激な温度変化
ハイライト

高精度窒化ケイ素基板

,

耐薬品性セラミック基板

,

セラミック基板 低汚染

メッセージ
製品の説明

エレクトロニクス用高性能窒化ケイ素セラミック基板


窒化ケイ素セラミック部品:
窒化ケイ素(Si3N4)は、あらゆる先進セラミック材料の中で最も多用途な機械的、熱的、電気的特性の組み合わせを持っています。これは、非常に硬く、優れた熱衝撃および耐衝撃性を備えた高性能先進セラミックです。ほとんどの金属の高温能力を超え、クリープおよび耐酸化性の優れた組み合わせを備えています。さらに、低い熱伝導率と高い耐摩耗性により、最も要求の厳しい産業用途で最も過酷な条件に耐えることができる優れた材料となっています。高温および高負荷能力が必要な場合に、窒化ケイ素は優れた選択肢です。


低汚染窒化ケイ素基板 耐薬品性 Si3N4 セラミック基板

低汚染窒化ケイ素基板 耐薬品性 Si3N4 セラミック基板


Si3N4窒化ケイ素高熱伝導るつぼは、ガス圧焼結および精密仕上げプロセスを通じて高純度Si3N4原料から製造されたプレミアム構造セラミック容器です。従来のアルミナおよび石英るつぼとは異なり、窒化ケイ素るつぼは、優れた熱伝導率、極端な高温安定性、優れた機械的強度、および化学的不活性を特徴としています。熱伝導が遅い、熱衝撃による亀裂、高温酸化、汚染しやすいなどの従来のるつぼの一般的な欠点を効果的に解決します。高温焼結、溶融、熱処理、材料合成に広く適用され、工業生産および実験室での精密試験用の高信頼性消耗品として機能します。


低汚染窒化ケイ素基板 耐薬品性 Si3N4 セラミック基板


低汚染窒化ケイ素基板 耐薬品性 Si3N4 セラミック基板


優れた高熱伝導率と均一な加熱:
窒化ケイ素セラミックは、アルミナ、ジルコニア、石英材料よりもはるかに高い熱伝導率を備えています。Si3N4るつぼは、加熱中の迅速かつ均一な熱伝達を実現し、焼結および溶融サイクルを効果的に短縮し、生産効率を向上させ、局所的な過熱や温度偏差なしに一貫した材料加熱品質を保証します。
超高温耐性と熱衝撃安定性:
最高使用温度1400℃~1600℃で、窒化ケイ素るつぼは長期の高温条件下で安定した物理的および化学的特性を維持します。その非常に低い熱膨張係数は、優れた熱衝撃抵抗を可能にし、急速な加熱と急速な冷却による亀裂、変形、剥離に耐え、サイクリックな高温作業条件下での耐用年数を大幅に延長します。
優れた耐酸化性および耐食性:
高純度Si3N4材料は、強力な不活性と高温耐酸化性を特徴としています。るつぼは、高温での空気酸化、溶融金属、無機塩、およびほとんどの化学試薬からの浸食に耐えることができます。実験用または工業用材料と反応せず、サンプル汚染を効果的に回避し、完成品の高純度を保証します。
高い機械的強度と構造的靭性:
窒化ケイ素セラミックは、通常のセラミックるつぼよりもはるかに優れた顕著な曲げ強度と破壊靭性を誇ります。機械的衝撃、押出、高温クリープ変形に耐え、長期間の繰り返し使用中に完全な構造的完全性を維持します。破損損失を減らし、全体的な生産コストを削減します。
低汚染と高純度保証:
高密度で非多孔質のセラミック構造は、不純物の析出や材料の浸透を防ぎます。高温加熱中に化学反応や不純物の放出は発生せず、新エネルギー材料、電子セラミック、製薬、高度な実験室研究の厳格な高純度要件を完全に満たします。
長寿命とコスト効率:
亀裂や経年劣化を起こしやすい従来のるつぼと比較して、窒化ケイ素高熱伝導るつぼは安定した性能と長寿命を備えています。頻繁な交換回数を減らし、装置のダウンタイムと消耗品コストを削減し、バッチ工業生産に安定した経済的なサポートを提供します。
低汚染窒化ケイ素基板 耐薬品性 Si3N4 セラミック基板

窒化ケイ素材料シート

特性 単位 シリコーンナイトライド
機械的  密度 gm/cc 3.2
気孔率 % 0
曲げ強度 Mpa 830
圧縮強度 Mpa 2500
弾性率 Gpa 310
ポアソン比 / 0.27
硬度 kg/mm2 1580
破壊靭性 KIC Mpa *m 1/2 6.1
熱 熱伝導率 W/ m*k 30
熱膨張係数 10⁻⁶/K 3.3
比熱  j/kg*K /
耐熱衝撃性  °C  /
最高使用温度 °C 1400
電気  絶縁破壊強度 ac-kv/mm         /
誘電率 / 8
損失正接 / /
体積抵抗率  ohm・cm >10¹⁴



低汚染窒化ケイ素基板 耐薬品性 Si3N4 セラミック基板

特徴:

● 高硬度
窒化ケイ素は非常に高い硬度を示し、耐摩耗工具や切削工具などの分野に適しています。

● 優れた耐摩耗性
窒化ケイ素セラミックは優れた耐摩耗性を示し、高摩耗環境での用途に適しています。

● 優れた絶縁性能
窒化ケイ素セラミックは優れた電気絶縁特性と化学的安定性を備えており、エレクトロニクスおよび半導体産業で広く使用されています。

● 高温安定性
高温環境で安定性を維持できるため、高温ヒーターや炉などの用途に適しています。

低汚染窒化ケイ素基板 耐薬品性 Si3N4 セラミック基板

用途:
回転ボールベアリングおよびローラーベアリング
切削工具
エンジン部品: バルブ、ロッカーアームパッド、シール面
誘導加熱コイルサポート
タービンブレード、ベーン、バケット
溶接およびろう付け治具
発熱体部品
るつぼ
金属管成形ロールおよびダイ
TIG / プラズマ溶接ノズル
溶接ポジショナー
高摩耗環境での精密シャフトおよびアクスル
熱電対シースおよびチューブ
半導体プロセス装置

低汚染窒化ケイ素基板 耐薬品性 Si3N4 セラミック基板